一、鑄造廠內(nèi)部不完整的檢測

對于鑄造廠內(nèi)部容易出現(xiàn)的問題，常用的無損檢測方法是超聲檢測和射線檢測。其中射線檢測效果，它能夠反映內(nèi)部不足之處種類、形狀、大小和分布情況的直觀圖像，但對于大厚度的大型

鑄件，超聲檢測是很的，可以比較地測出內(nèi)部不足之處的位置、當量大小和分布情況。

1、鑄造廠之超聲檢測

超聲檢測也可用于檢查鑄造廠的內(nèi)部不足之處，它是利用在鑄件內(nèi)部的高頻聲能的聲束傳播而檢查，碰到內(nèi)部表面或不足之處時產(chǎn)生反射而發(fā)現(xiàn)不足之處。反射聲能的大小是內(nèi)表面或不足之處的指向

性和性質(zhì)以及這種反射體的聲阻抗的函數(shù)，因此可以應用各種不足之處或內(nèi)表面反射的聲能來檢測不足之處的存在位置、壁厚或者表面下不足之處的。超聲檢測作為一種應用比較廣泛的無損檢測手

段，其主要優(yōu)勢表現(xiàn)在：檢測，可以探測細小的裂紋；具有大的穿透能力，可以探測厚截面鑄件。其主要局限性在于：對于輪廓尺寸復雜和指向性不好的斷開性不足之處的反射波形解釋困難；

對于不合意的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，例如晶粒大小、組織結(jié)構(gòu)、多孔性、夾雜含量或細小的分散析出物等，同樣妨礙波形解釋；另外，檢測時需要參考標準試塊。

2、鑄造廠之射線檢測（微焦點XRAY）

鑄造廠射線檢測，一般用X射線或γ射線作為射線源，因此需要產(chǎn)生射線的設(shè)備和其他附屬設(shè)施，當工件置于射線場照射時，射線的輻射強度就會受到鑄件內(nèi)部不足之處的影響。通過射線膠片予以顯像記錄，或者通過熒光屏予以實時檢測觀察，或者通過輻射計數(shù)儀檢測穿過鑄件射出的輻射強度隨著不足之處大小、性質(zhì)的不同而有局部的變化，形成不足之處的射線圖像。其中通過射線膠片顯像記錄的方法是常用的方法，也就是通常所說的射線照相檢測，射線照相所反映出來的不足之處圖像是直觀的，不足之處形狀、大小、數(shù)量、平面位置和分布范圍都能呈現(xiàn)出來，只是不足之處一般不能反映出來，需要采取措施和計算才能確定。現(xiàn)在出現(xiàn)應用射線計算機層析照相方法，由于設(shè)備比較昂貴，使用成本高，目前還無法普及，但這種代表了高清晰度射線檢測技術(shù)未來發(fā)展的方向。此外，使用近似點源的微焦點X射線系統(tǒng)實際上也可較大焦點設(shè)備產(chǎn)生的模糊邊緣，使圖像輪廓清晰。使用數(shù)字圖像系統(tǒng)可提高圖像的信噪比，進一步提高圖像清晰度。

二、鑄造廠表面及近表面不足之處的檢測

1、鑄造廠之渦流檢測

渦流檢測適用于檢查表面以下一般不大于6～7MM深的不足之處。渦流檢測分放置式線圈法和穿過式線圈法2種。如果鑄件表面存在不足之處，則渦流的電特征

會發(fā)生畸變，從而檢測出不足之處的存在，渦流檢測的主要缺點是不能直觀顯示探測出的不足之處大小和形狀，一般只能確定出不足之處所在表面位置和，另外它對工件表面上小的開口不足之處的

檢出靈敏度不如滲透檢測。當試件被放在通有交變電流的線圈附近時，進入試件的交變磁場可在試件中感生出方向與

激勵磁場相垂直的、呈渦流狀流動的電流（渦流），渦流會產(chǎn)生一與激勵磁場方向相反的磁場，使線圈中的原磁場有部分減少，從而引起線圈阻抗的變化。

2、鑄造廠之磁粉檢測

磁粉檢測適合于檢測表面不足之處及表面以下數(shù)毫米深的不足之處，它需要直流（或交流）磁化設(shè)備和磁粉（或磁懸浮液）才能進行檢測操作。磁化設(shè)備用來在鑄件內(nèi)外表面產(chǎn)生磁場，磁粉或磁懸浮液

用來顯示不足之處。當在鑄件   范圍內(nèi)產(chǎn)生磁場時，磁化區(qū)域內(nèi)的不足之處就會產(chǎn)生漏磁場，當撒上磁粉或懸浮液時，磁粉被吸住，這樣就可以顯示出不足之處來。這樣顯示出的不足之處基本上都是

橫切磁力線的不足之處，對于平行于磁力線的長條型不足之處則顯示不出來，為此，操作時需要不斷改變磁化方向，以能夠檢查出未知方向的各個不足之處。